原子层沉积和化学气相沉积有什么不同

原子层沉积属于化学吸附，化学气相沉积是物理吸附。原子层沉积，是通过将 气相 前驱体脉冲交替地通入 反应器并在沉积基体上 化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在 前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积 反应器进行清洗。由此可知沉积反应 前驱体物质能否在被沉积材料表面化学吸附是实现原子层沉积的关键。化学气相沉积，是一种制备材料的气相生长方法，它是把一种或几种含有构成薄膜元素的化合物、单质气体通入放置有基材的反应室，借助空间气相化学反应在基体表面上沉积固态薄膜的工艺技术。