磁控溅射镀膜与等离子体化学气相沉积镀膜的区别？

楼主概念不对膜层一般为蒸发镀膜、溅射镀膜、喷涂镀膜、电离镀膜等方法。溅射镀膜过程中，在靶与基体之间形成了含有离子、电子、中性原子团组成的对外显中性的气体，这就是等离子体。溅射镀膜过程分为物理气象沉积、化学气象沉积、物理/化学气象沉积他们都是在等离子体中形成的。物理气象沉积，是等离子体中的正离子轰击靶表面轰击来的分子/原子溅射到基体表面，飞行过程中并为发生任何反应。化学气象沉积，是等离子体中的正离子轰击靶表面轰出来的分子/原子溅射到基体表面，飞行过程中发生了化学反应。不过一般的磁控溅射都是物理、化学气象沉积的共同结果。我这样说楼主是否能够清楚一些？