如何又快又好的制作薄片样品

要用离子减薄仪制备硅基底氮化硼镀层截面的透射电镜样品，先要将截面磨薄至50微米以下，并将镀层界面放置在夹片中心。 硅基底氮化硼镀层总厚度大概300微米，样品的制备流程如下：1、将样品用刻刀切两个大小为3mm×3mm左右的小方块，用棉签粘酒精清洁镀层表面。2、将两个小方块的镀膜面用M-bond 610离子减薄胶对粘，由于样品厚度较薄，分别再用两片硅片（厚度550微米左右）分别粘住样品背面，总厚度值加大后更有利于样品磨制均匀。3、用XTEM截面夹具夹紧对粘后的样品，放置在加热台上设定温度70度，烘烤6小时以上。4、当对粘样品固化后，用TXP的金刚石锯片将截面切成厚度400微米的薄片数片，去除最外侧的两片，还可以制备至少三片离子减薄样品。